(高纯半导体级）化学品，适用于中大规模集成电路、半导体分立器件及硅材料等生产领域，可满足微电子行业对专用高纯化学品的需求。

       MOS级化学品杂质最高含量为0.01-10ppm，有的可降低到ppb数量级，尘埃颗粒指标（粒径≥0.2μm，≤0.5μm）控制在≤20个/ml的水平。

       CMOS级化学品金属杂质含量小於10ppb。